首页 | 学院概况 | 组织机构 | 党建工会 | 师资队伍 | 本科生培养 | 研究生培养 | 科学研究 | 职业认证 | 学生工作 | 校友风采 | 测试服务 
 
当前位置: 首页>>测试服务>>对外服务>>设备简介>>正文
磁控溅射仪
2019-06-14 16:25  

型号:JGP-450型单室磁控溅射系统

生产厂商:中科院沈阳科学仪器有限公司

技术指标:

载片直径小于30mm的各种基片,基片加热与水冷独立工作;永磁靶3套,φ60mm;各靶射频溅射与直流溅射兼容,靶与样品间距离可调;样品台转速每分钟5-10转,基片加热最高温度至600 ℃ ;薄膜不均匀度:< 5%

功能及可开设实验项目

薄膜共溅射沉积和各种氮化物和氧化物薄膜反应溅射沉积,即设备可在片状或类似形状样品表面镀制各种金属、非金属、化合物等薄膜材料。如AlAuPtCrTiNiCuNiCrTiWWSiO2Al2O3TaNITOAZO等。可开设应用磁控溅射法制备各种薄膜材料等实验。

联系人:实训楼C410 张越老师

       唐立丹老师

 

 

 

 

 

关闭窗口